Сайт не поддерживает ваш браузер. Пожалуйста, обновите браузер, или скачайте другой
Продолжая использовать joom.ru, вы подтверждаете, что согласны с Правилами использования и Политикой конфиденциальности, в том числе, с порядком использования cookie-файлов.
Книга Advances In Research and Development : Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications Volume 23
Текущая цена
Цена 31 490 ₽ руб.
Бесплатная доставка 17-22 февраля
Условия возврата
Надежные платежи




Поддержка говорит по-русски
Описание
Похожие товары




![KOKUYO Примечание исследовательской лаборатории (Модель входа) No-LBB205S [Набор из 5 книг]](https://img-edg.joomcdn.net/a08b2c24fcf9445e95a55b2c73f4c36320b24448_100_100.jpeg)














